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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 利用可

河合　晃／監修 -- シーエムシー出版 -- 2024.8 -- 578.4

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 一般 578.4/ｻｲｼ/一般 122560503 一般 利用可

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タイトル 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
書名ヨミ サイシン　フォトレジスト　ザイリョウ　カイハツ　ト　プロセス　サイテキカ　ギジュツ
シリーズ名 ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ　ＬＩＢＲＡＲＹ
著者名 河合　晃 ／監修  
著者ヨミ カワイ，アキラ  
出版者 シーエムシー出版  
出版年 2024.8
ページ数等 ３２０ｐ
大きさ ２６ｃｍ
版表示 普及版
一般注記 並列タイトル：Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　ｆｏｒ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ　Ｒｅｓｉｓｔ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ａｎｄ　Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ
一般件名 感光性樹脂 , リソグラフィー  
ISBN 4-7813-1774-X
ISBN13桁 978-4-7813-1774-8
定価 ４８００円
問合わせ番号（書誌番号） 1120625281
NDC8版 578.4
NDC9版 578.4
NDC10版 578.4

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
第１編　総論
第２編　フォトレジスト材料の開発
第３編　フォトレジスト特性の最適化と周辺技術
第４編　材料解析・評価
第５編　応用展開
第６編　レジスト処理装置

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