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最新ガスバリア薄膜技術利用可

中山　弘／監修 -- シーエムシー出版 -- 2017.4 -- 549.8

所蔵館	所蔵場所	請求記号	資料コード	資料区分	帯出区分	状態
鳥取県立	一般	549.8/ｻｲｼ/一般	120206083	一般	利用可

タイトル	最新ガスバリア薄膜技術
書名ヨミ	サイシン　ガスバリア　ハクマク　ギジュツ
副書名	ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて
シリーズ名	エレクトロニクスシリーズ
著者名	中山　弘／監修, 小川　倉一／監修
著者ヨミ	ナカヤマ，ヒロシ , オガワ，ソウイチ
出版者	シーエムシー出版
出版年	2017.4
ページ数等	２３２ｐ
大きさ	２６ｃｍ
一般注記	欧文タイトル：Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｔｈｉｎ‐Ｆｉｌｍ　Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ　ｆｏｒ　Ｇａｓ‐Ｂａｒｒｉｅｒ　Ｆｉｌｍｓ
一般件名	薄膜
ISBN	4-7813-1196-2
ISBN13桁	978-4-7813-1196-8
定価	４６００円
問合わせ番号（書誌番号）	1120103121
NDC8版	549.8
NDC9版	549.8
著者紹介	【中山弘】大阪市立大学工学研究科教授；（株）マテリアルデザインファクトリー代表取締役（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
著者紹介	【小川倉一】三容真空工業（株）技術顧問；小川創造技術研究所代表（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

タイトル	著者名	ページ
第１編　ガスバリア薄膜技術（ガスバリア薄膜技術の基礎；低温真空成膜技術；高速真空成膜技術；真空ロールツーロール成膜技術）
第２編　ガスバリアフィルム評価技術と高機能ベースフィルム（ガスバリア性評価技術；エレクトロニクス用プラスチックフィルム；ハイガスバリア性達成への技術開発例と課題）