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    田路至弘
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ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用 利用可

表面技術協会／編 -- コロナ社 -- 2016.12 -- 566.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 一般 566.7/ﾄﾗｲ/一般 120299071 一般 利用可

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タイトル ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
書名ヨミ ドライ　プロセス　ニ　ヨル　ヒョウメン　ショリ　ハクマク　ケイセイ　ノ　オウヨウ
著者名 表面技術協会 ／編  
著者ヨミ ヒョウメン　ギジュツ　キョウカイ  
出版者 コロナ社  
出版年 2016.12
ページ数等 ３０５ｐ
大きさ ２１ｃｍ
一般注記 欧文タイトル：Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｄｒｙ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｆｏｒ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ　ａｎｄ　Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍｓ　Ｃｏａｔｉｎｇ
一般件名 金属表面処理 , 薄膜 , 真空蒸着  
ISBN 4-339-04650-7
ISBN13桁 978-4-339-04650-2
定価 ４６００円
問合わせ番号（書誌番号） 1120073203
NDC8版 566.7
NDC9版 566.7

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
第１編　ドライプロセスの基盤技術（真空技術；ガス制御；プロセスモニター）
第２編　ドライプロセスの応用（光学薄膜；トライボロジー薄膜；表面硬化処理；耐環境性皮膜；ガスバリア膜；親水性とはっ水性；高分子材料の表面処理；炭素系薄膜；ドライプロセスと医療）

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