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ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 利用可

表面技術協会／編 -- コロナ社 -- 2013.5 -- 566.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 一般 566.7/ﾄﾗｲ/一般 118990377 一般 利用可

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タイトル ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
書名ヨミ ドライ　プロセス　ニ　ヨル　ヒョウメン　ショリ　ハクマク　ケイセイ　ノ　キソ
著者名 表面技術協会 ／編  
著者ヨミ ヒョウメン　ギジュツ　キョウカイ  
出版者 コロナ社  
出版年 2013.5
ページ数等 １９８ｐ
大きさ ２１ｃｍ
内容細目 文献あり　索引あり
原書名 並列タイトル：Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ｔｏ　Ｄｒｙ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｆｏｒ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ　ａｎｄ　Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｏａｔｉｎｇ
一般件名 金属表面処理 , 薄膜  
ISBN 4-339-04631-0
ISBN13桁 978-4-339-04631-1
定価 ２８００円
問合わせ番号（書誌番号） 1101936922
NDC8版 566.7
NDC9版 566.7
内容紹介 ドライプロセスの歴史的発展過程にふれ、これを支える基盤技術である真空・プラズマを解説。さらに、代表的なドライプロセスについて、どんな原理・原則に基づいているか、薄膜・表面評価分析技術について解説。

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
１　ドライプロセスとプラズマ（表面処理；ドライプロセスと真空　ほか）
２　真空およびプラズマ（真空；プラズマ　ほか）
３　ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成（真空蒸着；イオンプレーティング　ほか）
４　分析と評価（膜厚測定；表面分析　ほか）

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