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1 件中、 1 件目
液浸リソグラフィのプロセスと材料
利用可
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東木達彦/監修 -- シーエムシー出版 -- 2012.8 -- 549.7
SDI
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所蔵は
1
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所蔵館
所蔵場所
請求記号
資料コード
資料区分
帯出区分
状態
鳥取県立
書庫
549.7/エキシ/一般H
118874324
一般
利用可
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資料詳細
タイトル
液浸リソグラフィのプロセスと材料
書名ヨミ
エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
シリーズ名
エレクトロニクスシリーズ
著者名
東木達彦
/監修
著者ヨミ
ヒガシキ,タツヒコ
出版者
シーエムシー出版
出版年
2012.8
ページ数等
243p
大きさ
26cm
版表示
普及版
一般件名
リソグラフィー
ISBN
4-7813-0550-4
ISBN13桁
978-4-7813-0550-9
定価
3800円
問合わせ番号(書誌番号)
1101878074
NDC8版
549.7
NDC9版
549.7
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内容一覧
タイトル
著者名
ページ
液浸リソグラフィーとは
液浸露光用塗布現像装置
レチクル技術
液浸リソグラフィの光学系
液浸露光装置の開発
液浸用レジストの開発
液浸用トップコート材料
液浸レジスト材料の評価
含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
偏光照明技術
高NA投影レンズの開発
次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
次世代液浸リソグラフィの光学系
32nmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開
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