佐藤淳一/著 -- 秀和システム -- 2011.10 -- 549.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.7/サトウ/一般H 118455694 一般 利用可

資料詳細

タイトル 図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み
書名ヨミ ズカイ ニュウモン ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ リソグラフィ ノ キホン ト シクミ
副書名 リソグラフィ技術の核心に迫る
シリーズ名 How-nual visual guide book
著者名 佐藤淳一 /著  
著者ヨミ サトウ,ジュンイチ  
出版者 秀和システム  
出版年 2011.10
ページ数等 271p
大きさ 21cm
内容細目 文献あり 索引あり
一般件名 集積回路 , 半導体  
ISBN 4-7980-3063-5
ISBN13桁 978-4-7980-3063-0
定価 2000円
問合わせ番号(書誌番号) 1101807404
NDC8版 549.7
NDC9版 549.7
内容紹介 プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年東京電気化学工業(株)入社。82年ソニー(株)入社。半導体先端テクノロジーズ創立時に出向等。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。 

内容一覧

タイトル 著者名 ページ
リソグラフィ技術とは引き算のプロセス?
光リソグラフィの発展
露光技術と装置
レジスト材料
レジスト塗布と現像
マスクとリソグラフィ技術
EUVリソグラフィ
リソグラフィの計測技術
多彩なパターニング技術
CMOSロジックプロセス(フロントエンド)
a-Si TFTプロセス
a-Si太陽電池プロセス