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フォトマスク 利用可

田邉功／共著 -- 東京電機大学出版局 -- 2011.4 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.8/ﾌｵﾄ/一般Ｈ 118403065 一般 利用可

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タイトル フォトマスク
書名ヨミ フォトマスク
副書名 電子部品製造の基幹技術
著者名 田邉功 ／共著, 竹花洋一 ／共著, 法元盛久 ／共著  
著者ヨミ タナベ，イサオ , タケハナ，ヨウイチ , ホウガ，モリヒサ  
出版者 東京電機大学出版局  
出版年 2011.4
ページ数等 ３２３ｐ
大きさ ２１ｃｍ
内容細目 索引あり
一般注記 『入門フォトマスク技術』（工業調査会２００６年刊）の改題
原書名 並列タイトル：Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ
一般件名 半導体  
ISBN 4-501-32820-7
ISBN13桁 978-4-501-32820-7
定価 ３８００円
問合わせ番号（書誌番号） 1101772663
NDC8版 549.8
NDC9版 549.8
内容紹介 半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版である、フォトマスク。本書では、次世代技術をささえるフォトマスク技術について、開発に携わる著者がわかりやすく、体系的にまとめた。
著者紹介 【田邉】１９６１年千葉大学工学部卒。６１～８１年（株）日立製作所。２００３年から（有）ＩＴコンサルティング：フォトマスクならびにフォトリソの技術コンサルティング。０８年から（株）アドバンスシステムズジャパン：次世代プローブカード、実装技術の開発、事業化。 
著者紹介 【竹花】１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻卒。６９～９０年（株）日立製作所。９４～２００１年ＰＭＪ実行委員。１９９９～２００７年ＪＥＩＴＡ　ＳＴＲＪ　ＷＧ５特別委員。０４年からエムイーティー研究所：フォトマスクの技術コンサルティング。 

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