田邉功/共著 -- 東京電機大学出版局 -- 2011.4 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.8/フオト/一般H 118403065 一般 利用可

資料詳細

タイトル フォトマスク
書名ヨミ フォトマスク
副書名 電子部品製造の基幹技術
著者名 田邉功 /共著, 竹花洋一 /共著, 法元盛久 /共著  
著者ヨミ タナベ,イサオ , タケハナ,ヨウイチ , ホウガ,モリヒサ  
出版者 東京電機大学出版局  
出版年 2011.4
ページ数等 323p
大きさ 21cm
内容細目 索引あり
一般注記 『入門フォトマスク技術』(工業調査会2006年刊)の改題
原書名 並列タイトル:Photomask Technology
一般件名 半導体  
ISBN 4-501-32820-7
ISBN13桁 978-4-501-32820-7
定価 3800円
問合わせ番号(書誌番号) 1101772663
NDC8版 549.8
NDC9版 549.8
内容紹介 半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版である、フォトマスク。本書では、次世代技術をささえるフォトマスク技術について、開発に携わる著者がわかりやすく、体系的にまとめた。
著者紹介 【田邉】1961年千葉大学工学部卒。61~81年(株)日立製作所。2003年から(有)ITコンサルティング:フォトマスクならびにフォトリソの技術コンサルティング。08年から(株)アドバンスシステムズジャパン:次世代プローブカード、実装技術の開発、事業化。 
著者紹介 【竹花】1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻卒。69~90年(株)日立製作所。94~2001年PMJ実行委員。1999~2007年JEITA STRJ WG5特別委員。04年からエムイーティー研究所:フォトマスクの技術コンサルティング。