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1 件中、 1 件目
フォトマスク
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田邉功/共著 -- 東京電機大学出版局 -- 2011.4 -- 549.8
SDI
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所蔵は
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所蔵館
所蔵場所
請求記号
資料コード
資料区分
帯出区分
状態
鳥取県立
書庫
549.8/フオト/一般H
118403065
一般
利用可
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資料詳細
タイトル
フォトマスク
書名ヨミ
フォトマスク
副書名
電子部品製造の基幹技術
著者名
田邉功
/共著,
竹花洋一
/共著,
法元盛久
/共著
著者ヨミ
タナベ,イサオ , タケハナ,ヨウイチ , ホウガ,モリヒサ
出版者
東京電機大学出版局
出版年
2011.4
ページ数等
323p
大きさ
21cm
内容細目
索引あり
一般注記
『入門フォトマスク技術』(工業調査会2006年刊)の改題
原書名
並列タイトル:Photomask Technology
一般件名
半導体
ISBN
4-501-32820-7
ISBN13桁
978-4-501-32820-7
定価
3800円
問合わせ番号(書誌番号)
1101772663
NDC8版
549.8
NDC9版
549.8
内容紹介
半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版である、フォトマスク。本書では、次世代技術をささえるフォトマスク技術について、開発に携わる著者がわかりやすく、体系的にまとめた。
著者紹介
【田邉】1961年千葉大学工学部卒。61~81年(株)日立製作所。2003年から(有)ITコンサルティング:フォトマスクならびにフォトリソの技術コンサルティング。08年から(株)アドバンスシステムズジャパン:次世代プローブカード、実装技術の開発、事業化。
著者紹介
【竹花】1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻卒。69~90年(株)日立製作所。94~2001年PMJ実行委員。1999~2007年JEITA STRJ WG5特別委員。04年からエムイーティー研究所:フォトマスクの技術コンサルティング。
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