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防汚・抗菌の技術動向
利用可
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角田光雄/監修 -- シーエムシー出版 -- 2010.4 -- 428.4
SDI
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所蔵は
1
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所蔵館
所蔵場所
請求記号
資料コード
資料区分
帯出区分
状態
鳥取県立
書庫
428.4/ホウオ/一般H
118161730
一般
利用可
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資料詳細
タイトル
防汚・抗菌の技術動向
書名ヨミ
ボウオ コウキン ノ ギジュツ ドウコウ
シリーズ名
CMC TL
シリーズ巻次
350
著者名
角田光雄
/監修
著者ヨミ
ツノダ,テルオ
出版者
シーエムシー出版
出版年
2010.4
ページ数等
266p
大きさ
21cm
一般注記
『防汚・抗菌の実際技術』(2004年刊)の普及版
一般件名
表面(工学)
ISBN
4-7813-0190-8
ISBN13桁
978-4-7813-0190-7
定価
4000円
問合わせ番号(書誌番号)
1101690651
NDC8版
428.4
NDC9版
428.4
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内容一覧
タイトル
著者名
ページ
第1章 防汚技術の基礎(汚れるということ)
第2章 光触媒技術を応用した防汚技術(光触媒の機能と材料;加工技術;抗菌効果とその評価方法;光触媒の実用化例)
第3章 高分子材料によるコーティング技術(アクリルシリコン樹脂;フッ素材料;結果および考察;総括)
第4章 帯電防止技術の応用(帯電防止;帯電防止による防汚コーティング技術に代わる新しい技術の動向;粒子汚染への静電気の影響と制電技術;クリーンルーム内における静電気)
第5章 実際の応用例(半導体工場のケミカル汚染対策;抗菌性プラスチック材料の複雑表面被覆;半導体プロセスにおける防汚技術;超精密ウェーハ表面加工における防汚;光触媒による環境浄化技術;機械加工分野)
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