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エレクトロニクス薄膜技術 利用可

白木靖寛／監修 -- シーエムシー出版 -- 2008.5 -- 549.8

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.8/ｴﾚｸ/一般Ｈ 117701030 一般 利用可

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タイトル エレクトロニクス薄膜技術
書名ヨミ エレクトロニクス　ハクマク　ギジュツ
シリーズ名 ＣＭＣテクニカルライブラリー
シリーズ巻次 ２８７
著者名 白木靖寛 ／監修  
著者ヨミ シラキ，ヤスヒロ  
出版者 シーエムシー出版  
出版年 2008.5
ページ数等 ２５３ｐ
大きさ ２１ｃｍ
一般注記 『次世代エレクトロニクス薄膜技術』（２００３年刊）の普及版
一般件名 薄膜  
ISBN 4-88231-993-4
ISBN13桁 978-4-88231-993-1
定価 ３６００円
問合わせ番号（書誌番号） 1101506048
NDC8版 549.8
NDC9版 549.8

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
第１章　薄膜作製技術の歴史と意義
第２章　計算化学による結晶成長制御手法
第３章　常圧プラズマＣＶＤ技術とその応用
第４章　ラダー電極を用いたＶＨＦプラズマ応用薄膜形成技術
第５章　触媒化学気相堆積法とその応用
第６章　コンビナトリアルテクノロジー―集積化薄膜技術による材料開発の革新
第７章　パルスパワー技術と応用
第８章　半導体薄膜の作製
第９章　ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
第１０章　強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用

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