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    木下百合子
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クラスターイオンビーム基礎と応用 利用可

山田公／編著 -- 日刊工業新聞社 -- 2006.10 -- 549.1

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.1/ﾔﾏﾀ/一般Ｈ 116729710 一般 利用可

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タイトル クラスターイオンビーム基礎と応用
書名ヨミ クラスター　イオン　ビーム　キソ　ト　オウヨウ
副書名 次世代ナノ加工プロセス技術
著者名 山田公 ／編著  
著者ヨミ ヤマダ，イサオ  
出版者 日刊工業新聞社  
出版年 2006.10
ページ数等 ２２３ｐ
大きさ ２１ｃｍ
内容細目 索引あり
一般件名 イオンビーム  
ISBN 4-526-05765-7
定価 ３２００円
問合わせ番号（書誌番号） 1101376732
NDC8版 549.1
NDC9版 549.1
内容紹介 本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
１　イオンビーム技術の概要（イオンの発見；イオンビーム技術の誕生　ほか）
２　ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理；ガスクラスターイオンビーム装置　ほか）
３　クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象；ガスクラスターイオンの照射効果の特長　ほか）
４　ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用；磁性・誘電体デバイス応用　ほか）
５　産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置；デカボランイオン注入装置）

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