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はじめての半導体リソグラフィ技術利用可

岡崎信次／著 -- 工業調査会 -- 2003.6 -- 549.7

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タイトル	はじめての半導体リソグラフィ技術
書名ヨミ	ハジメテ　ノ　ハンドウタイ　リソグラフィ　ギジュツ
シリーズ名	ビギナーズブックス
シリーズ巻次	２９
著者名	岡崎信次／著, 鈴木章義／著, 上野巧／著
著者ヨミ	オカザキ，シンジ , スズキ，アキヨシ , ウエノ，タクミ
出版者	工業調査会
出版年	2003.6
ページ数等	３０５ｐ
大きさ	２１ｃｍ
内容細目	索引あり
一般件名	集積回路 , 半導体
ISBN	4-7693-1224-5
問合わせ番号（書誌番号）	1101092880
NDC8版	549.7
NDC9版	549.7
内容紹介	半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。具体的には、光、電子線、Ｘ線・ＥＵＶなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。