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半導体プロセス技術 利用可

丹呉浩侑／編 -- 培風館 -- 199811 -- 5498

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.8/ﾊﾝﾄ/一般Ｈ 113708301 一般 利用可

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タイトル 半導体プロセス技術
書名ヨミ ハンドウタイ　プロセス　ギジュツ
シリーズ名 半導体工学シリーズ
著者名 丹呉浩侑 ／編  
著者ヨミ タンゴ，ヒロユキ  
出版者 培風館  
出版年 199811
ページ数等 ３２５ｐ
大きさ ２２ｃｍ
内容細目 文献あり　索引あり
一般件名 半導体  
ISBN 4-563-03298-0
問合わせ番号（書誌番号） 1100457629
NDC8版 5498
内容紹介 本書は、現在のＬＳＩの基幹を成しているＳｉ　ＭＯＳ　ＬＳＩプロセスを中心に記述したものである。これからこの分野の勉強を始めようとする学生・大学院生、あるいは技術者のため、半導体プロセスに関する理論と技術をできる限り整理し、基礎的事項を学べるようにまとめた。まず、ＭＯＳ　ＬＳＩの基本素子であるＭＯＳトランジスタの基本的知識とＭＯＳトランジスタなどの素子の製作に必要なプロセスモジュールを概観した後、リングラフィ、エッチング、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的かつ詳細に記述している。

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
１　基本素子の動作機構と製作プロセス
２　プロセスモジュールと製作プロセス
３　リソグラフィ
４　エッチング技術
５　絶縁膜技術
６　不純物導入技術
７　薄膜堆積技術
８　ウェーハ清浄化技術
９　結晶・ウェーハ技術
１０　プロセスシミュレーション
１１　半導体プロセス評価技術

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