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  • 著者
    森本英嗣
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シリコン 利用可

阿部孝夫／著 -- 培風館 -- 199405 -- 5498

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
鳥取県立 書庫 549.8/ｱﾍ/一般Ｈ 112364231 一般 利用可

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タイトル シリコン
書名ヨミ シリコン　／　ケツシヨウ　セイチヨウ　ト　ウエ－ハ　カコウ
副書名 結晶成長とウェーハ加工
シリーズ名 アドバンストエレクトロニクスシリーズ　１－５　エレクトロニクス材料・物性・デバイス
著者名 阿部孝夫 ／著  
著者ヨミ アベ，タカオ  
出版者 培風館  
出版年 199405
ページ数等 ３６１ｐ
大きさ ２２㎝
内容細目 各章末：参考文献
一般件名 シリコーン  
ISBN 4-563-03605-6
問合わせ番号（書誌番号） 1100193298
NDC8版 5498
内容紹介 本書は、現在までのシリコン結晶の大直径化およびデバイスプロセスにおける高度な品質管理技術の歴史を振り返りながら、単結晶シリコン製造法の実際とデバイスプロセス中に発生する種々の技術的問題について検証し、さらに今後予想されるギガビット級Ｄ‐ＲＡＭなどのデバイスに要求されるウェーハ開発のための技術に至るまでを詳述した解説書である。

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
１　シリコン結晶と技術革新―過去から現在まで
２　なぜシリコン単結晶が必要か
３　シリコン単結晶成長
４　ウェーハ加工
５　シリコン融液からの結晶成長
６　添加不純物の偏析現象
７　軽元素の偏析と結晶中の振る舞い
８　酸素析出
９　熱処理と転位（スリップ）の発生
１０　重金属の偏析と結晶中の振る舞い
１１　点欠陥と二次欠陥
１２　シリコンウェーハの表面
１３　ＵＬＳＩのための貼り合わせＳＯＩ技術

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